Lithography minangka teknik kanggo nransfer pola sing dirancang langsung utawa liwat medium penengah menyang permukaan sing rata, ora kalebu area permukaan sing ora mbutuhake pola. Ing litografi topeng, desain dicithak ing substrat lan kapapar nganggo alasersupaya materi setor wis etched adoh, siap kanggo proses luwih. Cara litografi iki akeh digunakake ing produksi massal wafer semikonduktor. Kemampuan kanggo proyek gambar cetha fitur cilik ing wafer diwatesi dening dawa gelombang cahya digunakake. Piranti litografi paling canggih saiki nggunakake cahya ultraviolet jero (DUV), lan ing mangsa ngarep dawane gelombang kasebut bakal terus ngluwihi ultraviolet jero (193 nm), ultraviolet vakum (157 nm lan 122 nm), lan ultraviolet ekstrem (47 nm lan 13 nm). ). Produk sing rumit lan owah-owahan desain sing kerep kanggo pasar IC, MEMS, lan biomedis - sing dikarepake kanggo macem-macem fungsi lan ukuran substrat saya tambah akeh - wis nambah biaya kanggo nggawe solusi sing disesuaikan banget iki nalika nyuda volume produksi. Solusi litografi adhedhasar topeng (topeng) tradisional ora larang regane utawa praktis kanggo akeh aplikasi kasebut, ing ngendi biaya lan wektu sing dibutuhake kanggo ngrancang lan nggawe kit topeng bisa mundhak kanthi cepet. Nanging, aplikasi litografi tanpa topeng ora diganggu amarga mbutuhake dawa gelombang UV sing cendhak banget, lan nggunakakelasersumber ing kisaran biru lan UV. Ing litografi tanpa topeng,laserlangsung ngasilake struktur mikro / nano ing lumahing bahan fotosensitif. Cara litografi serbaguna iki ora ngandelake bahan-bahan tutup lan owah-owahan tata letak bisa ditindakake kanthi cepet. Akibaté, prototyping cepet lan pembangunan dadi luwih gampang, karo keluwesan desain luwih, nalika nahan kauntungan saka jangkoan area gedhe (kayata wafer semikonduktor 300mm, tampilan panel flat utawa PCBS). Kanggo nyukupi syarat produksi cepet,laserdigunakake kanggo litografi tanpa topeng duwe ciri sing padha karo sing digunakake kanggo aplikasi topeng: Sumber cahya gelombang terus-terusan nduweni daya jangka panjang lan stabilitas dawa gelombang, jembar garis sing sempit lan owah-owahan cilik saka topeng. Stabilitas umur dawa kanthi sithik pangopènan utawa gangguan siklus produksi penting kanggo aplikasi loro kasebut. Laser DPSS nduweni linewidth sempit ultra-stabil, stabilitas dawa gelombang lan stabilitas daya, lan cocok kanggo rong cara lithography. Kita ngrancang lan nggawe daya dhuwur,laserfrekuensi siji kanthi stabilitas dawa gelombang sing ora ana tandhingane, ambane garis sing sempit lan jejak cilik ing jangkoan dawane gelombang sing dawa garing -- dadi cocog kanggo integrasi menyang sistem sing wis ana.
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies.
Privacy Policy
